A Olhar Digital noticiou que a ASML anunciou a preparação para o lançamento dos primeiros chips fabricados com a litografia High-NA EUV, uma tecnologia de ponta que promete avanços significativos na miniaturização de transistores e no desempenho de processadores, especialmente para aplicações de inteligência artificial.
A nova máquina, que utiliza lentes com abertura numérica elevada, é vista como um passo crucial para manter a Lei de Moore, mas enfrenta desafios de custo e complexidade. O setor discute se o investimento bilionário na High-NA EUV se justifica diante de alternativas como a litografia de múltiplos padrões e a embalagem avançada de chips.
A ASML, fornecedora líder de equipamentos para a indústria de semicondutores, espera que os primeiros chips comerciais com High-NA EUV cheguem ao mercado nos próximos anos, impulsionados pela demanda crescente por processadores mais eficientes para data centers e dispositivos móveis. A tecnologia deve beneficiar diretamente empresas como Intel, TSMC e Samsung.